imec
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imec 首次成功利用 ASML High NA EUV 光刻机实现逻辑、DRAM 结构图案化
本站 8 月 8 日消息,比利时微电子研究中心 imec 当地时间昨日宣布,在其与 asml 合作的 high na euv 光刻实验室首次成功利用 high na euv 光刻机曝光了逻辑和 dram 的图案结构。在逻辑图案方面,imec
本站 8 月 8 日消息,比利时微电子研究中心 imec 当地时间昨日宣布,在其与 asml 合作的 high na euv 光刻实验室首次成功利用 high na euv 光刻机曝光了逻辑和 dram 的图案结构。在逻辑图案方面,imec