high na

本站 8 月 8 日消息，比利时微电子研究中心 imec 当地时间昨日宣布，在其与 asml 合作的 high na euv 光刻实验室首次成功利用 high na euv 光刻机曝光了逻辑和 dram 的图案结构。在逻辑图案方面，imec

本站 4 月 19 日消息，综合外媒 semianalysis 和 the elec 报道，英特尔考虑在未来的 high na euv 光刻节点导入定向自组装 dsa 技术进行辅助。
DSA是一项被认为可部分取代传统光刻的新型图案化技术之一