光刻机

财联社2月29日讯（编辑 马兰）高数值孔径EUV光刻机是全球芯片制造商都在等待的下一代尖端半导体制造设备，而这一有双层巴士那么大的机器终于迎来了“初次曝光”。 据荷兰阿斯麦公司周三证实，新型光刻机已经首次将光线投射到晶圆之上，完成了基本功能验证，公司下一步将继续测试和调整系统，以发挥出设备的全部性能。 光刻系统使用聚焦光束来绘制计算机…

叮当号2月17日消息，ASML已经向Intel交付第一台高NA EUV极紫外光刻机，将用于2nm工艺以下芯片的制造，台积电、三星未来也会陆续接收，可直达1nm工艺左右。 那么之后呢？消息称，ASML正在研究下一代Hyper NA(超级NA)光刻机，继续延续摩尔定律。 ASML第一代Low NA EUV光刻机只有0.33 NA(孔径数值)，临界尺寸(CD)为1…

近日，全球光刻机大厂ASML首次在其荷兰总部向媒体公开展示了最新一代的High NA EUV光刻机。 除了已经率先获得全球首台High NA EUV光刻机的英特尔之外，台积电和三星订购High NA EUV预计最快2026年陆续到位，届时High NA EUV将成为全球三大晶圆制造厂实现2nm以下先进制程大规模量产的必备“武器”。 A…

叮当号2月15日消息，近日，光刻机巨头ASML首次在其荷兰总部向媒体公开展示了最新一代的High NA EUV光刻机。 据悉，一套High NA EUV光刻机的大小等同于一台双层巴士，重量更高达150吨，组装起来比卡车还大，需要被分装在250个单独的板条箱中进行运输。 装机时间预计需要250名工程人员、历时6个月才能安装完成。 根据爆料显示，High NA …

叮当号2月12日消息，ASML对外展示了最新EUV光刻机内部画面，或许在他们看来，就算把这些全部展现给大家看，也没办法来偷师他们的技术。 该系统已获得英特尔公司的订单，首台机器已于去年年底运抵其位于俄勒冈州的D1X工厂，英特尔计划在 2025 年年底开始使用该系统进行生产。 High-NA EUV光刻机能够在半导体上蚀刻出仅8nm宽的线条，是上一代产品的1/…

叮当号2月12日消息，据媒体报道，荷兰光刻机制造商阿斯麦（ASML）首次展出一台新型“High NA EUV”光刻机。 阿斯麦表示，这款设备耗资3.5亿美元（约合人民币25亿元），主要面向英特尔等高端半导体制造商，预计今年将出货一部分，但在定制和安装方面仍有工作要做。 据悉，数值孔径是用来衡量光学系统能够收集的光的角度范围，通过增大数…

叮当号2月8日消息，Intel已于日前接受了ASML的第一台新一代高NA EUV光刻机，但是台积电一直不为所动，可能要到1nm工艺时代才会跟进。 Intel计划将高NA EUV光刻机用于Intel 18A后的制程节点，也就是超过1.8nm，时间大概在2026-2027年。 Intel此前公布的路线图上，18A之后已经安排了三个新的制程节点，但尚未具体命名。 …