台积电:2nm 节点进展顺利,2025 下半年推出 N3X、N2 制程

本站5月24日消息,据台媒“moneydj理财网”报道,台积电高管在2024年技术论坛新竹场上称,其采用nanosheet纳米片(gaa晶体管)的2nm节点进展顺利。
台积电联席副 COO 张晓强表示,台积电的 2nm 制程进展“非常顺利”

本站5月24日消息,据台媒“moneydj理财网”报道,台积电高管在2024年技术论坛新竹场上称,其采用nanosheet纳米片(gaa晶体管)的2nm节点进展顺利。

台积电联席副 COO 张晓强表示,台积电的 2nm 制程进展“非常顺利”:目前纳米片的“转换表现”已达到目标 90%,按良率计算也超过了 80%

台积电认为其 N2 制程在 2025 年推出时,将继续成为代工业界最领先的技术。

台积电:2nm 节点进展顺利,2025 下半年推出 N3X、N2 制程

▲ 论坛上的张晓强。图源台积电官方社交媒体动态

另据外媒 Anandtech 整理,台积电将在 2025 下半年实现 N2 制程量产,同期还将带来 3nm 家族中面向 HPC 应用的 N3X 制程。

N3X 制程拥有更高的 1.2V 最大电压,相较 N3P 制程在相同频率下功耗降低 7%,在相同面积下性能提升 5%,在相同频率下密度提升 10%。另据本站此前报道,该节点有望从今年开始接获投片。

而在 2026 下半年,台积电将量产两个 2nm 家族变体制程:N2P 和 A16

N2P 制程将相较 N2 制程在相同频率和密度下功耗降低 5~10%,在相同密度和功耗下性能提升 5~10%。

在 A16 节点,台积电将正式引入背面供电技术。该制程可在相同工作电压下,频率提升 8~10%;在相同频率下功耗降低 15~20%,密度至高提升 10%。

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